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    太阳能电池为防止为表面的反射,在硅片表面制备折射率介于半导体和空气折射率之间的透明薄膜层。这个薄膜层称为减反射膜.

 

  设半导体、减反射膜、空气的折射率分别为n2n1n0,减反射膜厚度为d1,则反射率R

 

 

 

                              

 

r2=(n1 - n2)/(n1 + n2)

     r1=(n0 - n1)/(n0 + n1)   

     θ=2πn1d1/λ

    λ-波长

 

显然,减反射膜的厚度d11/4波长时,R为最小。即

 

  

      (λ=λ'         (2.43)

 

    一般在太阳光谱的峰值波长处,使得R变为最小,以此来决定d1的值。 

 

    以硅电池为例,因为在可见光至红外光范围内,硅的折射率为n2 = 3.4~4.0,使式(2.43)为零,则n1的值( n01)为1.8£ n1£2.0。设l'=4800埃,则600£d1£667埃,满足这些条件的材料一般可采用氮化硅.

 

    目前的膜厚的行业指标一般在70-90nm,折射率要求在1.9-2.1.

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